1 西南科技大学 制造过程测试技术教育部重点实验室,四川绵阳6200
2 中国工程物理研究院 机械制造工艺研究所,四川绵阳61900
为了研究磁流变抛光液中磨粒团聚对光学玻璃元件的磨损性能,利用环境可控的直线往复式摩擦磨损试验机,以不锈钢球为对磨副,以熔石英为基底,系统地研究了磁流变抛光液中纳米金刚石磨粒团聚程度对熔石英摩擦磨损性能的影响,并利用光学显微镜、白光干涉仪等设备分析熔石英的磨损机制,最后将摩擦学实验结果与实际磁流变抛光结果进行对比。实验结果表明:纳米金刚石磨粒团聚程度越大,熔石英表面的材料去除率越大,磨损区域亚表面损伤情况越严重。当载荷为0.5 N时,熔石英在团聚磨粒作用下的磨损主要以黏着磨损为主,伴随着轻微的磨粒磨损,同时熔石英的亚表面无明显损伤;当载荷从0.5 N增加到4 N时,熔石英的磨损形式以磨粒磨损为主,熔石英的表面和亚表面出现大量损伤。采用相同磨粒团聚程度的抛光液进行熔石英磨损与磁流变抛光实验发现,熔石英在磁流变抛光过程中的材料去除率与磨损实验的材料去除率变化趋势保持一致,表明借助摩擦磨损实验在一定程度上可以预测实际磁流变抛光中的材料去除率。
磁流变抛光 磨粒团聚 纳米金刚石 熔石英 磨损性能 magnetorheological finishing abrasive agglomeration nanodiamond fused silica wear properties
上海理工大学 光电信息与计算机工程学院,上海 200093
为克服传统制备半导体场效应晶体管(FET)过程中存在的材料损伤、对准精度受限、电极转移难度大和成本高昂等缺陷,提出了一种基于柔性掩膜技术的半导体FET制备方法。利用紫外光刻技术制作柔性掩膜板,直接捞取并加热蒸干固定掩膜板,采用离子束溅射法沉积金属,并通过将半导体CdSe纳米带转移到电极上,获得了N沟道耗尽型FET,证实了器件的功能性和此方法的可行性。此技术成本低廉,且材料损伤小,为制备集成半导体器件提供了一种新的思路。
半导体 场效应晶体管 掩膜板 semiconductor field effect transistor stencil
上海工程技术大学 电子电气工程学院, 上海 201620
为提高立体匹配精度, 提出一种超像素分割约束的自适应SAD与Census融合的立体匹配算法。针对SAD在匹配过程中无差别使用窗口内像素点灰度值引入的误差, 首先用简单线性迭代聚类(SLIC)超像素分割方法对待匹配图进行处理, 将分割结果结合窗口内邻域像素点和中心像素点的距离给SAD立体匹配过程中窗口内像素点灰度值赋予适当的权重; 进行Census立体匹配过程, 并对两种算法的匹配结果进行自适应融合; 对初始视差图进行左右一致性检测和遮挡点填充等后处理过程。实验表明, 提出算法与传统算法相比, 匹配效果显著提高, 可以很好地适应细节丰富的图像并且对于有垂直位移的图组也有较好的适应性, 对于图像对比度及光照变化具有鲁棒性。
超像素分割 SAD算法 Census变换 左右一致性检测 Super-pixel segmentation SAD algorithm census transformation Left-right consistency testing
西南科技大学,制造过程实验技术教育部重点实验室,四川 绵阳 621010
利用光学显微镜、摩擦磨损试验机和光学轮廓仪,研究了摩擦引起的硼硅酸盐玻璃次表面损伤对玻璃腐蚀行为的影响规律。结果表明:玻璃的腐蚀行为取决于次表面损伤的类型。当摩擦诱导产生玻璃次表面致密化时,玻璃磨痕处因腐蚀导致的体积增量比非损伤区的大,但其经(0.9×Tg) K退火后其磨痕体积增量几乎为零。当摩擦诱导产生玻璃次表面裂纹时,腐蚀诱导的玻璃磨痕体积增量较大,并且经(0.9×Tg) K退火处理后其腐蚀诱导的磨痕体积增量仍然存在,但经更高温度和时长的退火可消除其腐蚀导致的磨痕体积增量。
玻璃 次表面损伤 摩擦 磨损 裂纹 致密化 腐蚀 glass subsurface damage friction wear cracking densification dissolution
上海理工大学 上海市现代光学系统重点实验室,上海 200093
过渡金属硫系化合物二维材料因其体积小、直接带隙发光等特点,可作为微纳光学结构的优异介质材料而受到广泛关注。通过转移法得到的二维材料微纳光学结构,如光学微腔、微纳传感器等,容易引起材料污染和破损,对结构的功能特性影响很大。通过化学气相沉积法(CVD),将硒化钨直接沉积在6 μm直径的二氧化硅(SiO2)微球上,对微球上的材料进行成分表征,证明在微球上生长出了二维材料硒化钨,且证明了通过化学气相沉积法在曲面上沉积二维材料是可行的。这种化学气相沉积法直接生长的二维材料微纳球腔,有望应用于高性能光学传感器和微纳光源器件中。
化学气相沉积法 二氧化硅微球 硒化钨 chemical vapor deposition (CVD) Silica microspheres WSe2
Author Affiliations
Abstract
Laboratory of Integrated Opto-Mechanics and Electronics, Shanghai Key Laboratory of Modern Optical System, Engineering Research Center of Optical Instrument and System (Ministry of Education), University of Shanghai for Science and Technology, Shanghai 200093, China
We demonstrate an effective approach of mode suppression by simply using a tungsten probe to destroy the external neck surface of polymer microbottle resonators. The higher-order bottle modes with large axial orders, spatially located around the neck surface of the microresonator, will suffer large optical losses. Thus, excitation just with an ordinary free-space light beam will ensure direct generation of single fundamental bottle mode lasers. This method is with very low cost and convenient and can obtain high side-mode suppression factors. Our work demonstrated here may have promising applications such as in lasing and sensing devices.
140.3570 Lasers, single-mode 140.3945 Microcavities 160.5470 Polymers Chinese Optics Letters
2019, 17(12): 121401